Ferrosilicon ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਅਤੇ ਉਤਪਾਦਨ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ

ਸਿਲੀਕਾਨ ਅਤੇ ਆਕਸੀਜਨ ਵਿਚਕਾਰ ਰਸਾਇਣਕ ਸਾਂਝ ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਹੈ, ਇਸਲਈ ਸਟੀਲ ਨਿਰਮਾਣ ਉਦਯੋਗ ਵਿੱਚ ਫੈਰੋਸਿਲਿਕਨ ਨੂੰ ਡੀਆਕਸੀਡਾਈਜ਼ਰ (ਵਰਖਾ ਡੀਆਕਸੀਡੇਸ਼ਨ ਅਤੇ ਡਿਫਿਊਜ਼ਨ ਡੀਆਕਸੀਡੇਸ਼ਨ) ਵਜੋਂ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ। ਉਬਾਲੇ ਹੋਏ ਸਟੀਲ ਅਤੇ ਅਰਧ-ਕਿਲਡ ਸਟੀਲ ਨੂੰ ਛੱਡ ਕੇ, ਸਟੀਲ ਵਿੱਚ ਸਿਲੀਕਾਨ ਸਮੱਗਰੀ 0.10% ਤੋਂ ਘੱਟ ਨਹੀਂ ਹੋਣੀ ਚਾਹੀਦੀ। ਸਿਲੀਕਾਨ ਸਟੀਲ ਵਿੱਚ ਕਾਰਬਾਈਡ ਨਹੀਂ ਬਣਾਉਂਦਾ, ਪਰ ਫੈਰਾਈਟ ਅਤੇ ਆਸਟੇਨਾਈਟ ਵਿੱਚ ਠੋਸ ਘੋਲ ਵਿੱਚ ਮੌਜੂਦ ਹੁੰਦਾ ਹੈ। ਸਿਲੀਕਾਨ ਦਾ ਸਟੀਲ ਵਿੱਚ ਠੋਸ ਘੋਲ ਦੀ ਮਜ਼ਬੂਤੀ ਅਤੇ ਠੰਡੇ ਕੰਮ ਕਰਨ ਵਾਲੇ ਵਿਗਾੜ ਦੀ ਕਠੋਰਤਾ ਦੀ ਦਰ ਵਿੱਚ ਸੁਧਾਰ ਕਰਨ ਲਈ ਇੱਕ ਮਜ਼ਬੂਤ ​​ਪ੍ਰਭਾਵ ਹੈ, ਪਰ ਸਟੀਲ ਦੀ ਕਠੋਰਤਾ ਅਤੇ ਪਲਾਸਟਿਕਤਾ ਨੂੰ ਘਟਾਉਂਦਾ ਹੈ; ਇਸਦਾ ਸਟੀਲ ਦੀ ਕਠੋਰਤਾ 'ਤੇ ਇੱਕ ਮੱਧਮ ਪ੍ਰਭਾਵ ਹੈ, ਪਰ ਇਹ ਸਟੀਲ ਦੀ ਤਪਸ਼ ਸਥਿਰਤਾ ਅਤੇ ਆਕਸੀਕਰਨ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਨੂੰ ਸੁਧਾਰ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਇਸਲਈ ਸਿਲੀਕਾਨ ਆਇਰਨ ਨੂੰ ਸਟੀਲ ਨਿਰਮਾਣ ਉਦਯੋਗ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਮਿਸ਼ਰਤ ਏਜੰਟ ਵਜੋਂ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ। ਸਿਲੀਕਾਨ ਵਿੱਚ ਵੱਡੇ ਖਾਸ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਗਰੀਬ ਥਰਮਲ ਚਾਲਕਤਾ ਅਤੇ ਮਜ਼ਬੂਤ ​​ਚੁੰਬਕੀ ਚਾਲਕਤਾ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਵੀ ਹਨ। ਸਟੀਲ ਵਿੱਚ ਸਿਲੀਕਾਨ ਦੀ ਇੱਕ ਨਿਸ਼ਚਿਤ ਮਾਤਰਾ ਹੁੰਦੀ ਹੈ, ਜੋ ਸਟੀਲ ਦੀ ਚੁੰਬਕੀ ਪਾਰਦਰਸ਼ੀਤਾ ਵਿੱਚ ਸੁਧਾਰ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਹਿਸਟਰੇਸਿਸ ਦੇ ਨੁਕਸਾਨ ਨੂੰ ਘਟਾ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਐਡੀ ਮੌਜੂਦਾ ਨੁਕਸਾਨ ਨੂੰ ਘਟਾ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਇਲੈਕਟ੍ਰੀਕਲ ਸਟੀਲ ਵਿੱਚ 2% ਤੋਂ 3% Si ਹੁੰਦਾ ਹੈ, ਪਰ ਘੱਟ ਟਾਈਟੇਨੀਅਮ ਅਤੇ ਬੋਰਾਨ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਲੋੜ ਹੁੰਦੀ ਹੈ। ਕਾਸਟ ਆਇਰਨ ਵਿੱਚ ਸਿਲੀਕਾਨ ਨੂੰ ਜੋੜਨਾ ਕਾਰਬਾਈਡ ਦੇ ਗਠਨ ਨੂੰ ਰੋਕ ਸਕਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਗ੍ਰੇਫਾਈਟ ਦੇ ਵਰਖਾ ਅਤੇ ਗੋਲਾਕਾਰੀਕਰਨ ਨੂੰ ਉਤਸ਼ਾਹਿਤ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ। ਸਿਲੀਕਾਨ-ਮੈਗਨੀਸ਼ੀਆ ਆਇਰਨ ਇੱਕ ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਵਰਤਿਆ ਜਾਣ ਵਾਲਾ ਗੋਲਾਕਾਰ ਏਜੰਟ ਹੈ। ਬੇਰੀਅਮ, ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ, ਸਟ੍ਰੋਂਟਿਅਮ, ਬਿਸਮਥ, ਮੈਂਗਨੀਜ਼, ਦੁਰਲੱਭ ਧਰਤੀ, ਆਦਿ ਵਾਲੇ ਫੈਰੋਸਿਲਿਕਨ ਨੂੰ ਕੱਚੇ ਲੋਹੇ ਦੇ ਉਤਪਾਦਨ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਟੀਕਾਕਾਰੀ ਵਜੋਂ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ। ਹਾਈ-ਸਿਲਿਕਨ ਫੈਰੋਸਿਲਿਕਨ ਇੱਕ ਘਟਾਉਣ ਵਾਲਾ ਏਜੰਟ ਹੈ ਜੋ ਘੱਟ-ਕਾਰਬਨ ਫੈਰੋਅਲਾਇਜ਼ ਪੈਦਾ ਕਰਨ ਲਈ ਫੈਰੋਅਲੌਏ ਉਦਯੋਗ ਵਿੱਚ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ। ਲਗਭਗ 15% ਸਿਲੀਕਾਨ (ਕਣ ਦਾ ਆਕਾਰ <0.2mm) ਵਾਲਾ ਫੈਰੋਸਿਲਿਕਨ ਪਾਊਡਰ ਹੈਵੀ ਮੀਡੀਆ ਖਣਿਜ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਵਜ਼ਨ ਏਜੰਟ ਵਜੋਂ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।

ਫੇਰੋਸਿਲਿਕਨ ਉਤਪਾਦਨ ਉਪਕਰਣ ਇੱਕ ਡੁੱਬੀ ਚਾਪ ਘਟਾਉਣ ਵਾਲੀ ਇਲੈਕਟ੍ਰਿਕ ਭੱਠੀ ਹੈ। ਫੈਰੋਸਿਲਿਕਨ ਦੀ ਸਿਲੀਕੋਨ ਸਮੱਗਰੀ ਨੂੰ ਲੋਹੇ ਦੇ ਕੱਚੇ ਮਾਲ ਦੀ ਖੁਰਾਕ ਦੁਆਰਾ ਨਿਯੰਤਰਿਤ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ। ਸ਼ੁੱਧ ਸਿਲਿਕਾ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਨ ਅਤੇ ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਫੈਰੋਸਿਲਿਕਨ ਪੈਦਾ ਕਰਨ ਲਈ ਏਜੰਟਾਂ ਨੂੰ ਘਟਾਉਣ ਤੋਂ ਇਲਾਵਾ, ਮਿਸ਼ਰਤ ਵਿੱਚ ਅਲਮੀਨੀਅਮ, ਕੈਲਸ਼ੀਅਮ, ਅਤੇ ਕਾਰਬਨ ਵਰਗੀਆਂ ਅਸ਼ੁੱਧੀਆਂ ਨੂੰ ਘਟਾਉਣ ਲਈ ਭੱਠੀ ਦੇ ਬਾਹਰ ਸ਼ੁੱਧ ਕਰਨ ਦੀ ਵੀ ਲੋੜ ਹੁੰਦੀ ਹੈ। ਫੇਰੋਸਿਲਿਕਨ ਉਤਪਾਦਨ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦਾ ਪ੍ਰਵਾਹ ਚਿੱਤਰ 4 ਵਿੱਚ ਦਿਖਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ। ਫੇਰੋਸਿਲਿਕਨ ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਸੀ≤ 65% ਨੂੰ ਇੱਕ ਬੰਦ ਇਲੈਕਟ੍ਰਿਕ ਭੱਠੀ ਵਿੱਚ ਪਿਘਲਾਇਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ। Si ≥ 70% ਦੇ ਨਾਲ Ferrosilicon ਨੂੰ ਇੱਕ ਖੁੱਲੀ ਇਲੈਕਟ੍ਰਿਕ ਭੱਠੀ ਜਾਂ ਅਰਧ-ਬੰਦ ਇਲੈਕਟ੍ਰਿਕ ਭੱਠੀ ਵਿੱਚ ਪਿਘਲਾਇਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।